2025 年 9 月 12 日，南京冠石科技株式会社（证券代码：605588，证券简称：冠石科技）以收集互动情势，于上证路演中央召开 2025 年半年度事迹申明会。公司董事长张建巍、总司理门芳芳、董事会秘书王顺遂、财政总监潘心月和自力董事刘汉明、江小三配合出席，与泛博投资者深切沟通，周全解答市场关切，通报公司成长战略与营业焦点价值。

会上，冠石科技董事长张建巍率先发表开场致辞。他代表公司董事会、治理层和全体员工，对于介入申明会的投资者暗示诚挚接待，并感激上证路演中央为本次交流提供的撑持。张建巍夸大，本次事迹申明会旨于搭建透明高效的沟通桥梁，充实回应投资者体贴的问题，帮忙市场更周全、深切地舆解公司营业素质与持久投资价值，同时也期待听取投资者的名贵定见与建议，助力公司连续优化成长路径。

于互动问答环节，投资者缭绕公司产物进展、焦点营业光掩膜项目的研发与投产计划等要害议题睁开发问，公司治理层一一坦诚回应，披露多项主要信息：

针对于某产物进展，公司明确暗示，今朝该产物已经进入送样验证阶段，总体验证周期估计为 6-9 个月，后续将按照验证进度和时推进相干事情。

作为市场高度存眷的焦点成长范畴，光掩膜项目的进展成为本次交流的核心。面临投资者关在 28 纳米产物投产时间、研发程度、竞争格式、国产替换空间、技能追逐方针和 2025 年末营收占比的系列发问，公司回应称，光掩膜项目设置装备摆设周期设定为 60 个月，项目建成达产后，将具有年产 12450 片半导体光掩膜版的能力。公司光掩膜研发团队焦点成员均于该范畴拥有富厚的技能研发、出产治理经验和行业资源，将严酷根据事情规划推进出产落地。项目投产后，冠石科技将跻身海内技能能力进步前辈的自力光掩膜版出产企业行列，可有用弥补海内进步前辈制程光罩空缺，打破外洋企业于高端光掩膜版范畴的垄断场合排场，显著晋升我国半导体光掩膜财产的安全可控性。

关在光掩膜产物的技能贮备与投产优先级，公司进一步吐露，宁波子公司光掩膜版项目的半导体光掩膜版技能节点已经锁定 350-28nm，此中以 45-28nm 为主力标的目的。该技能结构将加快公司于高精度、低线宽半导体光掩膜版范畴的入口替换进程，同时弥补海内中高端集成电路芯片用光掩膜版的市场空缺，为海内半导体财产链完美提供要害支撑。